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国内高端光刻机,我们有三年的时间赶上ASML

2020-06-22 18:47:02  

 

我们意识到了美国之所以能够实现世界领先,最为重要的一点就是因为美国实现了科技领先,而我们要想获得更好的发展,就必须在科技领域有更大更多的突破,虽然不至于说超越美国,但是最起码要让给美国忌惮。问题是美国给我们这样的机会么?他们自然不会眼睁睁着看着我们快速进步,实现对他们的超越,遗憾的是,美国并非是采用自己加速的发展方式,反而是在拐角处偷偷地伸出了自己的脚,目的就是想绊住我们前进的步伐。在操作方面,美国首先所瞄准的就是我们的半导体产业,而如何遏制住我们的半导体产业发展呢?芯片制造产业,关键点:光刻机!我们可以制造自己的光刻机,但是在高端光刻机上,实事求是的讲,我们落后很多,但是用高端光刻机就扼住了我们发展的咽喉?这个结论为时过早!种种迹象表明,我们在duv光刻机方面,已经获得重大突破,而时间节点就是在今年年底,duv光刻机一旦获得成功,对于现在绝大多数的芯片制造来说,障碍基本上被排除了,剩下的就是euv光刻机了,当然,euv光刻机的难度更大,不过,duv光刻机是基础,有了这个基础,科技风景线小编还是对我们的科研人员充满自信的!asml作为现在世界上光刻机领域的巨无霸,当然不会坐看我们在技术上的超越,这一点和美国还是有点区别的,美国是自己发展不好,也不希望我们发展好,而asml则是用技术来拉大差距。据悉,在第一代euv光刻机获得突破之后,asml的新一代euv光刻机已经在研发之中,按照asml的计划,第二代eub光刻机exe/5000系列要比第一代的nxe/3400b以及nxe/3400c性能提升不少。主要的提升点就是物镜系统的数值孔径指标,要从0.33提升到0.55。在数值孔径指标提升之后,将给euv光刻机的分辨率提升70%左右,这一提升将让光刻机的支撑工艺达到2nm甚至是1nm。留给我们的时间是非常紧迫的,如果我们不能够加紧追赶,将进一步落下距离,不过,asml的新一代光刻机最快也要到2022年才能够出货。这期间,我们有不到三年的时间,虽然说不至于追赶上,但是,只要我们进一步缩小差距,对于国产芯片制造产业来说,就有希望!

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